光刻机，相比第一代，不单单是制造芯片的精度提升了，光刻机本身也有大幅度提升!
首当其冲的就是“刻刀”! 光刻机的刻刀是光。
第一代光刻机采用传统可见光源，到了第二代使用氘灯当光源，能发射波长更短的紫外光。 紫外光的波长通常在三百纳米以下，相比可见光，波长更短，意味着刻刀变小了。
刻刀变小，精度随之提升。
能雕刻更小的尺寸，更高的精度，更快的速度，以及更高的合格率。 当然。
相比可见光雕刻，紫外光也不全都是优点，也有缺点，缺点就是容易受到反射和干涉影响。 为了解决问题。
第二代光刻机上，用了抗反射技术，降低紫外光反射和干涉造成的影响。 想完全消除影响基本不可能。
只能尽量降低。 除了光。
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